光刻机的光是什么光

光刻机使用光源进行曝光，以在硅片上形成电路图案。这些光源主要包括以下几种类型：

1. 紫外光 （UV） ：最早的光刻机光源是汞灯产生的紫外光源，波长约为365nm。

2. 深紫外光 （DUV） ：包括KrF光源（波长248nm）和ArF光源（波长193nm），用于制造更小工艺节点的芯片。

3. 极紫外光 （EUV） ：最新的光源，波长约为13.5nm，用于制造7-3nm工艺节点的先进芯片。

光刻机通过光源照射掩模版上的图形，并通过投影光学系统将图形投影到硅片上的光刻胶上，经过显影和刻蚀过程，最终形成所需的电路图案

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